Создан первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров
В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе - Россия. Это важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства.
Российский фотолитограф создан резидентом ОЭЗ "Технополис Москва" при партнерстве с белорусским заводом. Отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер - мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.
В настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.
Источник:

118 комментариев
9 месяцев назад
Ответа на свой вопрос - это для дальнейших разработок или для всяких шпионских дел? - я не получил. А когда в России стали разрабатывать процессор Эльбрус, то понял, что ответ я всё
Удалить комментарий?
Удалить Отмена9 месяцев назад
Удалить комментарий?
Удалить Отмена9 месяцев назад
Литографов под процессоры вообще в мире в пределах десятка.
А эти ставят 2026 год.
Не 2030-й, как все планы в нашей стране.
Уже внушает надежду.
Удалить комментарий?
Удалить Отмена9 месяцев назад
Удалить комментарий?
Удалить Отмена